?射頻電源RFPP技術是在美國一家從事射頻電源及匹配器生產的公司開發的，新型是RFPP射頻電源技術承自美國老牌射頻電源制造公RFPP射頻電源主要是作用在等離子體工業設備上的驅動源，其主要的用途是用在鍍膜、等離子體清洗、CO2激光器等設備上。像世界上一些有名的RFPP射頻電源，有AE、MKS、COMDEL等；功率有600W 1000W 2000W 3000W 5000W；RFPP射頻電源憑借著可以靈活改變匹配交改變電壓的功能成功的取代了現在使用很廣泛的高頻電源。在實際使用的過程中，一套1KW的RFPP射頻電源能夠通過匹配器修改匹配角后的輸出達到6KV的電壓，在放電穩定后又通過自動調節匹配角降低放電電壓。 RFPP射頻電源系統已經可以廣泛的應用于半導體工業。像在RFPP射頻電源系統中包括刻蝕、RIE、平行板 、ICP、射頻濺射、CVD和PVD等系統。?
?


在目前運用RFPP系統的RFPP射頻電源維修中，主要維修以下的范圍：RFPP射頻電源維修包括太陽能光伏、半導體、鍍膜，薄膜、等離子注入射頻電源維修、刻蝕，平板顯示，光盤、光電子LED等制造工藝射頻電源維修以及科研院校、技術研究所等設備的射頻電源維修、高壓電源維修、直流電源維修、RFPP射頻電源維修、RFPP射頻電源匹配器維修、激光電源維修等。
?
想要準確的對RFPP射頻電源進行維修，就要弄清楚RFPP中各功能的設計原理和目的
像是RFPP射頻電源中雙輸出功率范圍可實現高精度控的制設計，電源使用范圍一般為百分之十到百分之九十，低于百分之十精度無法保證，但賽恩(Seren)電源在使用低功率時，可選擇百分之十輸出，這樣可以保證在低功率輸出時同樣保持較高的精度。此功能對于一些研發機構非常適合，一臺電源可以當兩臺電源來使用。在RFPP射頻電源維修中也是維修者所要掌握的常識性問題。
維修者還要搞清楚RFPP射頻電源維修中的預設值等離子體啟輝電路設計在等離子體啟輝時，可以迅速匹配到合適位置，減少C-Tune/C-Load搜尋時間，即減少了反射功率過高的時間?？梢云鸬奖Ｗo電源的作用。知道可選擇的電流工作模式
對于PECVD而言，電流決定了沉積速度。如果是多電極陣列式PECVD，為使鍍膜更均勻，選用電流模式可以大幅降低因電極間差異、氣氛濃度差異等產生的薄膜沉積的不一致，提高各電極間鍍膜的均勻性。賽恩除了提供電流模式外，也提供傳統的功率模式。